お知らせ／展示会

この度、より高精度な光学部品をご提供することを目的とし、
高精度光学多層成膜スパッタ装置『HELIOS』（Bühler Alzenau GmbH社）を導入しました！

HELIOSの導入により、高精度且つ1,000層を超える超多層成膜が可能となり、
高いブロッキング性を実現する高OD（optical density = 光学濃度）フィルタ、
狭帯域ノッチフィルタや蛍光分析用フィルタなど、従来の設備では実現が
難しかったフィルタのご提供が可能となります。

測定保証のための設備も取り揃えており、今後ご提供できるフィルタ製品の
ラインナップも充実させて参ります。

光学フィルタで課題をお持ちの方、これから新規に開発をお考えの方、
是非お問い合わせください。

◆分光特性例

HELIOSで成膜した蛍光分析用フィルタの実測データです(層数200層、 総膜厚20μm)。
励起光と蛍光の波長間隔が狭い蛍光観察において、急峻なフィルタ特性で透過と阻止を
切り分けることができ、高いコントラストで観察できるようになります。
裏面に反射防止（AR）コーティングを施すことで更に高い透過率が得られます。